この研究は、HVDC送電線下の地表レベルの電界およびイオン電流密度の分布をフラックストレーシング法（FTM）で計算した。また、1本のDCテスト線および3本の稼働中の送電線で測定したデータを、FTMによる計算値と比較した。その結果、電界およびイオン電流密度の分布に最も影響を与える要因は導体のコロナ開始の電位勾配であるが、間接的には導体表面の粗さも要因である；測定データの変動に比べ、計算に導入した仮定に起因する誤差は非常に小さかった、と報告している。
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