この研究は、超低周波磁界（100 Hz、5.6 mT）の連続的または断続的ばく露が、Vero細胞のDNA完全性に及ぼす遅発性の影響を、ばく露終了から48時間後にアルカリコメットアッセイまたは細胞周期解析することにより調べた。連続ばく露群（連続波の45分間ばく露）、断続ばく露群（1秒間ON、3秒間OFFのサイクルで45分間ばく露）、擬似ばく露群で比較した。その結果、連続ばく露と断続ばく露では有意差がなかったが、ばく露群では、擬似ばく露群に比べ、DNA損傷のある細胞の数が増加した；定量的評価では、テール長、テール部分のDNA量、オリーブテールモーメントの増加が見られた；細胞周期解析では、S期細胞の頻度上昇が見られた、と報告している。
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