この研究は、ヒト臍帯静脈内皮細胞に対する弱い静磁界の影響を増殖、生存能力、またeNOS、NOのような機能パラメータの発現、さらにVEFGの遺伝子発現について調べた。ばく露群は、静磁界強度60または120 μTで、1日24時間、3~4日間連続ばく露し、対照群はμメタルで磁気遮蔽した0.2-0.5 μT の環境に置いた。その結果、ばく露群では内皮細胞数の増加、eNOS 発現の増加など、内皮の治癒反応の増強が示されたと報告している。
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