[パルス磁界への短期ばく露により、紫外線UV-C放射の細胞殺傷影響の向上] med. app.

【目的】低周波パルス磁界（PMF）ばく露が、UVC照射で誘導された細胞殺傷に変化をもたらすかどうかを調べること。【材料と方法】指数的に成長するMCF-7乳がん細胞を培養で成長させ、PMF（25 Hz, 0.76mT）とUVC（6.6J/m2～59.4J/m2）に2通りの方法でばく露させた。(a)細胞をPMFに30分ばく露させ、次いで、UVCに異なる量でばく露させた。(b)細胞を30分間PMFにばく露させ、ばく露15分後、PMFと違った量のUVCに同時にばく露させた。72時間の培養後、遺伝毒性で活性度を測定した。【結果】対照と比較して、両ばく露とも13.2J/m2 と19.8J/m2でUVC後、生存率が著しく減少した。PMFとUVCの同時ばく露は26.4J/m2で細胞殺傷に付加的な増加を示した。2回目の実験方法で効果が最大であった。【結論】UVCとPMFの組み合わせは、UVC照射の細胞殺傷効果があった。また、その効果はど同時に加えると大きいように思われる。